三井化学＜4183＞、旭化成＜3407＞からフォトマスク用ペリクル事業を取得

三井化学は、旭化成から半導体や液晶パネルの露光工程で必要となるフォトマスク用ペリクル（保護膜）事業を取得することを決めた。三井化学はペリクルをIoT（モノのインターネット）材料の中心製品の一つとして位置付けており、事業拡大・能力増強につなげる。取得価額は74億円。取得予定日は2023年7月1日。

ペリクルは露光工程で微細パターンが描かれたフォトマスクにちりが付かないようにするための保護膜。旭化成から引き継ぐのは日本国内のほか、韓国、台湾、北米、中国でのペリクル事業。当該事業の直近売上高は43億5100万円。

三井化学はLSI（大規模集積回路）ペリクルの大手で、最先端のEUV（極端紫外線）露光用ペリクルについてもいち早く事業化した。一方、旭化成はFPD（フラットパネルディスプレー）ペリクルの大手で、LSIペリクルも手がけるが、一層の技術開発や追加投資などが継続的に必要なことなどから、他社との協業・事業統合を模索していた。