旭化成、半導体などの露光工程で使われるフォトマスク用保護膜事業を三井化学に譲渡

旭化成＜3407＞は、半導体や液晶パネルの露光工程で使われるフォトマスク用ペリクル（保護膜）事業を三井化学＜4183＞に譲渡すると発表した。フラットパネルディスプレー（FPD）製造用と、半導体・LSI（大規模集積回路）製造用の小型ペリクルを主に取り扱うが、競争力の向上や高精細化などに向けて一層の技術開発・追加投資が継続的に必要となることから、今後の事業のあり方を検討していた。譲渡価額は74億円。譲渡予定日は2022年7月1日。